物理气相沉积法 (PVD)


 

简介

物理气相沉积法是一个利用蒸发,凝结,在对象(基板)上形成一层薄膜涂层材料的技术。随着材料和厚度的要求不同,高真空磁控溅射镀膜(PVD) 可以对应用自定义且满足不同性质优化的需求,如装饰,光学,电学和力学。

 

主要应用/优势

物理气相沉积法被用于在手表,首饰上沉积一个装饰性的薄膜,以及在模具,刀具,低摩擦的机械零件上沉积一个功能性的薄膜。这个过程提供了较高的合格率和优良的品质,同时也环保。

物理气相沉积法已成功地将装饰性薄膜沉积在SUS和钛基板上。功能薄膜,如类金刚石碳(DLC)膜可以应用到生产过程中,如齿轮零件的质量,提供更好的耐磨性。

项目 底部材料类型 涂层能力 工业用途
PVD 高真空磁控溅射镀膜 SUS,钛,铜,锌,合金等  》 硬度: HV200-2000

 》 耐腐蚀性: > 48H (High)

 》 粗糙度: ~0.01 um
 》 表壳

 》 首饰

 》 家具

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